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通信系統(tǒng)中超高效率Buck變換器設(shè)計考慮

發(fā)布時間:2009-10-26 來源:萬代半導(dǎo)體元件上海有限公司

中心議題:
  • 同步Buck變換器上部功率MOSFET和下部功率MOSFET的工作特點(diǎn)
  • 選取上部和下部功率MOSFET的設(shè)計原則
  • 極低的漏柵極米勒電容的應(yīng)用
  • 超低導(dǎo)通電阻的功率MOSFET的應(yīng)用
解決方案:
  • 用SGT技術(shù)減小開關(guān)過程中米勒平臺的持續(xù)的時間,降低開關(guān)損耗
  • 選取Rds(on)盡量小的MOSFET
  • 使用新工藝和新材料
本文介紹了在通信系統(tǒng)中,同步Buck變換器上部功率MOSFET和下部功率MOSFET的工作特點(diǎn),同時討論了在設(shè)計高效率的同步Buck變換器時,選取上部和下部功率MOSFET原則;介紹了一種新型的采用柵極屏蔽的功率MOSFET,極低的漏柵極米勒電容適合于上部功率MOSFET的應(yīng)用;還介紹了一種適合于下部功率MOSFET應(yīng)用的具有超低導(dǎo)通電阻的功率MOSFET,兩者的配合實(shí)現(xiàn)超高的變換效率。

目前,通信系統(tǒng)要求越來越快的處理速度。其內(nèi)部專用集成芯片,處理器單元等電路所消耗的電流也越來越大;同時,為了減小系統(tǒng)的體積和尺寸,內(nèi)部的低壓大電流的DC/DC變換器不斷向高頻、高密度方向發(fā)展。頻率的提高帶來系統(tǒng)變換效率的降低,另外,由于世界范圍能源危機(jī)和環(huán)境污染提出了對節(jié)能減排的要求,因此,基于高頻的變換器必須采用新型的器件,從而可以保證系統(tǒng)既工作在高頻狀態(tài)下,實(shí)現(xiàn)小尺寸、小體積,又整體的提高系統(tǒng)的效率,實(shí)現(xiàn)節(jié)能減排的目的。效率的整體提高進(jìn)一步降低了電源系統(tǒng)的發(fā)熱量,提高系統(tǒng)的可靠性。通信系統(tǒng)內(nèi)部的系統(tǒng)板上使用了大量的Buck變換器,本文將針對這種變換器進(jìn)行詳細(xì)的討論。

Buck變換器工作特點(diǎn)在通信系統(tǒng)的系統(tǒng)板上,通常前級是從-48V通過隔離電源或電源模塊得到12V或24V輸出,也有采用3.3V或5V的輸出,目前基于ATCA的通信系統(tǒng)大多采用12V的中間母線架構(gòu),然后再由Buck變換器將12V向下轉(zhuǎn)換為3.3V、5V、2.5V、1.8V、1.25V等多種不同的電壓。常規(guī)的Buck變換器續(xù)流管采用肖特基二級管,而同步的Buck變換器下部的續(xù)流管卻使用功率MOSFET,由于功率MOSFET的導(dǎo)通電阻小,導(dǎo)通也遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于肖特基二級管的正向壓降,因此效率更高。因此,對于低壓大電流的輸出,通常采用同步的Buck變換器得到較高的效率。

對于Buck變換器,有以下的公式:
其中,Don為占空比。當(dāng)輸入電壓較高時,占空比就小。因此,對于高的輸入電壓,而輸出電壓較低,即輸入輸出的電壓差較大時,在一個開關(guān)周期,上部主功率開關(guān)管導(dǎo)通的時間將減小,而下部續(xù)流開關(guān)管導(dǎo)通的時間將自延長。圖1為上部MOSFET管和下部MOSFET管的工作波形,陰影為產(chǎn)生開關(guān)損耗的部分。
    
 
(a)上管的開關(guān)波形                     (b)下管的開關(guān)波形

圖1 Buck變換器MOSFET管的工作波形

上部MOSFET管在開關(guān)的瞬態(tài)過程中,產(chǎn)生明顯的開關(guān)損耗,同時也存在因?yàn)镸OSFET導(dǎo)通電阻Rds(on)產(chǎn)生的導(dǎo)通損耗。導(dǎo)通平均損耗與占空比和導(dǎo)通電阻Rds(on)成正比,對于基于ATCA的通信系統(tǒng)。輸入電壓為12V,輸入輸出的電壓差大,占空比小,因此導(dǎo)通損耗相對較小,而開關(guān)損耗占較大的比例。開關(guān)損耗主要與開關(guān)頻率及MOSFET在開關(guān)過程中持續(xù)的時間成正比。開關(guān)持續(xù)的時間與MOSFET的漏柵極的米勒電容直接相關(guān)。米勒電容小,開關(guān)持續(xù)的時間短,因此開關(guān)損耗降低。因此對于上部MOSFET管的功率損耗必須同時考慮到開關(guān)損耗和導(dǎo)通損耗。對于MOSFET,通常為了降低導(dǎo)通電阻Rds(on),就要采用更大面積的晶圓,這樣就可以得到更多的小單元,多個小單元并聯(lián)后總的導(dǎo)通電阻Rds(on)就降低,但同時也會增加漏極和柵極的相對面積,也就增大了漏極和柵極米勒電容。

從波形可以看到,對于下部MOSFET管在開關(guān)的瞬態(tài)過程中,沒有產(chǎn)生明顯的開關(guān)損耗。通常MOSFET的關(guān)斷是一個自然的0電壓的關(guān)斷,因?yàn)樵贛OSFET的漏極和源極有一個寄生的電容,由于電容的電壓不能突變,因此在關(guān)斷的瞬態(tài)過程中,漏極和源極電壓幾乎為0,這樣,在關(guān)斷的過程中,電壓與電流的乘積也就是關(guān)斷的功耗為0。所以對于MOSFET,要想實(shí)現(xiàn)0電壓的開關(guān)ZVS,關(guān)鍵要實(shí)現(xiàn)其0電壓開通。

通常同步的Buck變換器為了防止上下管的直通,上下管有一個死區(qū)的時間,在死區(qū)的時間內(nèi),上下管均保證關(guān)斷。那么在上管關(guān)斷后,由于輸出電感的電流不能突變,必須維持原來的方向流動,因此下部功率MOSFET內(nèi)部寄生二極管導(dǎo)通,寄生二極管導(dǎo)通后下部MOSFET的漏極和源極的電壓為二極管的正向壓降,幾乎為0,所以在寄生二極管導(dǎo)通后,MOSFET再導(dǎo)通,其導(dǎo)通是0電壓的導(dǎo)通,開通損耗幾乎為0。這樣下管是一個0電壓的開關(guān),開關(guān)損耗幾乎為0。因此在下管中,主要是由導(dǎo)通電阻Rds(on)形成的導(dǎo)通損耗。下管的選取主要考慮盡量用低的導(dǎo)通電阻Rds(on)。

此外,為了減小在死區(qū)時間內(nèi)由于體內(nèi)寄生二極管產(chǎn)生的正向壓降功耗和反向恢復(fù)帶來的功耗,通常會并聯(lián)一個正向壓降低、反向恢復(fù)時間短的肖特基二極管。過去主要是下管MOSFET的外部并聯(lián)一個肖特基二極管,現(xiàn)在通常將肖特基二極管集成在下部MOSFET管內(nèi)部。起初,是將一個單獨(dú)的肖特基二極管和一個MOSFET封裝在一起,后來是將它們做在一個晶圓上。將一個晶圓分成兩個區(qū),一個區(qū)做MOSFET,一個區(qū)做肖特基二極管。

由于二極管具有負(fù)溫度系數(shù),并聯(lián)工作不太容易,在一個晶圓上分成兩個區(qū)做MOSFET和肖特基二極管,那么肖特基二極管在與MOSFET交界的區(qū)域,溫度高,離MOSFET較遠(yuǎn)的區(qū)域,溫度低。當(dāng)肖特基二極管溫度高時,流過更大的電流,所以與MOSFET交界的肖特基二極管區(qū)域由于溫度高,流過的電流更大,溫度進(jìn)一步上升,就可能產(chǎn)生局部的損壞。目前,通常將特基二極管的單元做到MOSFET的單元里面,這樣就可能得到更好的熱平衡,提高器件的可靠性。

適用于上管的SGT新型功率MOSFET通常,對于MOSFET,導(dǎo)通電阻 Rds(on)和漏極柵極的米勒電容是一個相互矛盾的參數(shù),除非采用新的技術(shù),才能解決這個問題。對于同樣面積的晶圓,如果要減小米勒電容,就必須想方法減小漏極和柵極相對接觸的面積,最為直觀的方法就是對柵極采用一定的屏蔽技術(shù),從而減小漏極和柵極的相對電容。圖2就是采用AOS的專利技術(shù)SGT所制作的新型的具有極低漏極柵極米勒電容的功率MOSFET。
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注意到圖2中,除了柵極結(jié)構(gòu),其他的部分就是標(biāo)準(zhǔn)的采用Trench工藝的MOSFET。柵極被分割成上下兩個部分,下部分用一些特殊的材料屏蔽起來,下部分在內(nèi)部和上部分的柵極相連,而柵極的屏蔽層被連接到源極,從而減小漏極柵極米勒電容。用這種技術(shù)設(shè)計的MOSFET如AOL1464,其Vds為30V,Vgs在10V條件下Rds(on)為6.2mΩ,而其Crss只有20pF,極大地減小了開關(guān)過程中米勒平臺的持續(xù)的時間,降低了開關(guān)損耗。AOL1430,其Vds為30V,Vgs在10V條件下Rds(on)為2.5mΩ,而其Crss為50pF。圖3中,下管采用AOS的AOL1428,上管采用AOL1430和其他廠家目前Crss最低的器件的效率曲線,可見,上管采用AOL1430具有非常高的效率。注意:輸入電壓12V,輸出電壓 1.7V,開關(guān)頻率300kHz。


圖2采用SGT新型功率MOSFET結(jié)構(gòu)



圖3 SGT功率MOSFET效率
 
適用于下管的超低Rds(on)功率MOSFET下管主要是導(dǎo)通損耗,因此要盡量使用導(dǎo)通電阻Rds(on)低的功率MOSFET。目前,主要通過改進(jìn)工藝和使用新的材料,在同樣面積的晶圓上,降低每個單元的電阻,同時盡可能的設(shè)計出更多的單元,提高單元的密度,以形成低的導(dǎo)通電阻Rds(on)。

圖4中,每個MOSFET單元,在相同額定的Vds電壓條件下,導(dǎo)通電阻相同,其具有更高的單元密度,在水平和垂直兩個方向都盡可能縮小了尺寸。AOS的AON 6702采用DFN的封裝,其Vds為30V,Vgs在10V條件下Rds(on)為1.9mΩ,同時內(nèi)部集成的具有優(yōu)異特性的肖特基二極管。
      
                        
  (a)原來的單元結(jié)構(gòu)                                                (b)新的單元結(jié)構(gòu)

圖4高密度的MOSFET單元結(jié)構(gòu)

結(jié)論

(1)同步Buck變換器的上管同時具有開關(guān)損耗和導(dǎo)通損耗,在輸入輸出壓差大的應(yīng)用中,開關(guān)損耗為主。導(dǎo)通損耗與MOSFET的導(dǎo)通電阻Rds(on)成正比,開關(guān)損耗與漏極柵極米勒電容相關(guān)。

(2)采用SGT技術(shù)的功率MOSFET具有超低的漏極柵極米勒電容,從而減小了開關(guān)過程中米勒平臺的持續(xù)的時間,降低了開關(guān)損耗。

(3)同步Buck變換器的下管只有導(dǎo)通損耗,開關(guān)損耗幾乎為0。要選取 Rds(on)盡量小的MOSFET。使用新工藝和新材料,可以提高晶圓上單元的晶胞密度,降低單元的電阻密度。
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